AlTa Sputtering نىشان يۇقىرى ساپلىق نېپىز فىلىم PVD قاپلاش خاسلاشتۇرۇلغان
ئاليۇمىن-تانتال
نىشان ئاليۇمىن بىلەن تانتال تالقىنىنى ئارىلاشتۇرۇش ياكى ۋاكۇئۇم ئېرىتىش ئارقىلىق تولۇق زىچلىق بىلەن قىسىش ئارقىلىق تەييارلىنىدۇ.شۇڭا ئىخچاملانغان ماتېرىياللار ئىختىيارىي سۈزۈلۈپ ، ئاندىن كۆزلىگەن نىشان شەكلىدە شەكىللىنىدۇ.
ئاليۇمىن تانتالنىڭ پۈركۈش نىشانىنىڭ ساپلىقى يۇقىرى ، ئوخشاش مىكرو مىكرو قۇرۇلما ۋە ئۆتكۈزۈشچانلىقى ئەلا.ئۇ تەكشى تاختاي كۆرسىتىش سانائىتى ئۈچۈن نېپىز پەردە شەكىللەندۈرۈشتە كەڭ قوللىنىلىدۇ.ئاليۇمىن تانتالمۇ يۇقىرى تېمپېراتۇرىلىق ماسلىشىشچانلىقىنى يۇقىرى كۆتۈرۈش ئۈچۈن يۇقىرى ئىقتىدارلىق تىتان قېتىشمىسى ھاسىل قىلالايدۇ.
ئەل-تا قېتىشمىسىنىڭ نىجاسەت مەزمۇنى
تەركىبى | مەزمۇن(%) | ||||
Ta | Fe | Si | C | O | |
AlTa60 | 55.0 ~ 65.0 | .050.05 | ≤0.02 | ≤0.01 | .050.05 |
AlTa70 | 65.0 ~ 75.0 | .050.05 | ≤0.02 | ≤0.01 | .050.05 |
مول ئالاھىدە ماتېرىياللار پۈركۈش نىشانىنى ياساش بىلەن شۇغۇللىنىدىغان بولۇپ ، خېرىدارلارنىڭ ئۆلچىمىگە ئاساسەن ئاليۇمىن تانتال پۈركۈش ماتېرىياللىرىنى ئىشلەپچىقىرالايدۇ.مەھسۇلاتلىرىمىزنىڭ ئېسىل مېخانىكىلىق خۇسۇسىيىتى ، ئوخشاش قۇرۇلمىسى ، سىلىقلانغان يۈزى ئايرىلمىغان ، تەر تۆشۈكچىلىرى ۋە يېرىقلىرى يوق.تېخىمۇ كۆپ ئۇچۇرغا ئېرىشىش ئۈچۈن بىز بىلەن ئالاقىلىشىڭ.